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首先講述的是基本原理,因為前面總結了很多基本原理,所以這個位置比較粗略的帶過。
從圖上可以看出,Vt為開啟電壓,對于N溝道的cmos,當門極加的電壓逐漸變大的時候,多數(shù)載流子被門極所吸引,向上移動,形成N型溝道,N型半導體即被導通,有導通電流。開始有導通電流的門極所加的電壓我們稱為開啟電壓,隨著開啟電壓的增大,電流逐漸增大。這就是cmos管的基本原理。
從cmos管過渡到nand flash:
和cmos不同的是,在門極附近加了浮柵,浮柵的兩邊是氧化層。
當寫的時候,加入足夠大的門極電壓,就可以通過氧化層的隧穿效應,將電子打入到浮柵中完成寫0的過程;
當擦除的時候,就加反向電壓同樣利用隧穿效應讓電子從氧化層出來,就可以完成擦除功能。
當讀的時候,由于浮柵里面有電子,會有反向電場,這個時候會導致開啟電壓增大,讀的時候就是靠這個特性,給門極加大于開啟的電壓的電壓值,則溝道導通,會有導通電流,通過導通電流即可分析是否是0。
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